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三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机
- 分类：行业动态
- 作者：
- 来源：
- 发布时间：2025-10-16 11:01:22
- 访问量：312
【概要描述】【导语】据《韩国经济日报》今日消息，三星电子拟投入约1.1万亿韩元（约合54.92亿元人民币）引入两台最新High-NA双级极紫外光刻机，其中年内一台、明年上半年一台，用于产品量产。该设备为Twin Scan EXE:5200B，可大幅提升生产效率，助力降低工艺复杂性、提高晶圆产量。 《韩国经济日报》今日报道称，三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元（IT之家注：现汇率约合 54.92
三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机
【概要描述】【导语】据《韩国经济日报》今日消息，三星电子拟投入约1.1万亿韩元（约合54.92亿元人民币）引入两台最新High-NA双级极紫外光刻机，其中年内一台、明年上半年一台，用于产品量产。该设备为Twin Scan EXE:5200B，可大幅提升生产效率，助力降低工艺复杂性、提高晶圆产量。 《韩国经济日报》今日报道称，三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元（IT之家注：现汇率约合 54.92
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【导语】据《韩国经济日报》今日消息，三星电子拟投入约1.1万亿韩元（约合54.92亿元人民币）引入两台最新High-NA双级极紫外光刻机，其中年内一台、明年上半年一台，用于产品量产。该设备为Twin Scan EXE:5200B，可大幅提升生产效率，助力降低工艺复杂性、提高晶圆产量。
《韩国经济日报》今日报道称，三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元（IT之家注：现汇率约合 54.92 亿元人民币）引进两台最新的 High-NA 双级极紫外（EUV）光刻机。
据业内人士透露，三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的 High-NA EUV 设备，此次引进的机器将用于“产品量产”，尚属首(shǒu)次(cì)。三(sān)星电子计划在年内引进一台，并在明年上半年再引进一台。
Twin Scan EXE:5200B 是第二款 0.55 数值孔径（NA）或“High-NA”极紫外光刻系统，也是 TWINSCAN EXE:5000 的升级版，在提升对准精度的同时显著提高了生产效率，被视为生(shēng)产(chǎn)下(xià)一(yī)代(dài)半(bàn)导(dǎo)体芯片和高性能 DRAM 的必备设备。
相较于 NXE 系统，EXE:5200B 成像对比度提升 40%，分辨率达 8nm，使芯片制造商能够通过单次曝光实现比 TWINSCAN NXE 系统精细 1.7 倍的电路刻蚀，从而将晶体管密度提升至原来的 2.9 倍。这(zhè)有(yǒu)助(zhù)于(yú)降(jiàng)低(dī)大(dà)规(guī)模(mó)生(shēng)产(chǎn)中(zhōng)的(de)工(gōng)艺(yì)复(fù)杂(zá)性(xìng)，提(tí)高(gāo)客(kè)户(hù)晶(jīng)圆(yuán)厂(chǎng)的(de)晶(jīng)圆(yuán)产(chǎn)量(liàng)。
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